光學平臺廣泛運用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領域，以及其他機械行業的精密試驗儀器、設備振動隔離的關鍵裝置中。
隨著先進的設備和工藝的發展，使納米量級的測量成為可能。例如，變相光學干涉儀測量物體的表面粗糙度，目前可以達到1納米的分辨率。在半導體領域，已生產出線寬在亞微米量級的集成電路，提出測量準確率小于50納米的精度要求。
這樣的應用對系統中不同元件相關配合精度和穩定性提出了比較高的要求。
例如，用顯微鏡對圖像進行高度放大的成像系統，顯微鏡和照像物鏡共同決定了相紙上每點的圖像。如果，在曝光過程中光學系統的每一部分(照明系統、樣品、顯微鏡光學系統、成像光學系統和相紙平面)都精確地一同移動，不存在相對位移，成像也會很清晰。如果樣品相對物鏡產生了運動，則像就會模糊。在光學干涉測量、全息及運用相似的規律時，控制相對運動都是很重要的。
在一個理想的剛性體內部(只在理論上存在)，任何兩點的相對位置都是不變的。也就是說，在振動、靜力矩或溫度變化的情況下，任何實體的尺寸和形狀都是不變的。如果所有的元件都穩固地連接成一個理想的剛性體，不同元件之間沒有相對位移，系統的性能也會很穩固。
理想的剛性體是不存在的。現實中的系統只能近似的認為是剛性的，因此，其穩定性就要受到多方面因素的影響。例如外界的振源，系統的重量，光學平臺的結構等等。
